Descrizione del prodotto
Il wafer di ossido di silicio è un materiale avanzato ed essenziale utilizzato in vari settori e applicazioni high-tech. È una sostanza cristallina di elevata purezza prodotta dalla lavorazione di materiali di silicio di alta qualità, che lo rendono un substrato ideale per molti diversi tipi di applicazioni elettroniche e fotoniche.
I wafer di ossido di silicio sono ampiamente utilizzati nell'industria dei semiconduttori, dove fungono da piattaforma per la produzione di microchip e altri dispositivi elettronici. Con le loro eccellenti proprietà elettriche e termiche, i wafer di ossido di silicio sono essenziali per la produzione di circuiti integrati, chip di memoria e molti altri dispositivi elettronici.
Oltre che nell'industria elettronica, i wafer di ossido di silicio sono ampiamente utilizzati anche nelle applicazioni fotovoltaiche o di celle solari. Serve come base per la produzione di celle solari, dove agisce come uno strato che aiuta a migliorare l'efficienza della cella riducendo la riflettanza superficiale e aumentando l'assorbimento della luce.
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Tecnica di ossidazione |
Ossidazione umida o ossidazione secca |
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Diametro (pollici) |
2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / 12″ |
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Spessore dell'ossido |
10nm~15μm |
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Tolleranza |
+/- 5% |
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Superficie |
Ossidazione su un solo lato (SSO) / Ossidazione su due lati (DSO) |
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Forno |
Forno a tubi orizzontali |
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Gas |
Idrogeno e ossigeno gassoso |
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Temperatura |
900 gradi ~ 1200 gradi |
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Indice di rifrazione |
1.456 |
Immagine del prodotto
Perché scegliere noi
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